新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業/先端半導体製造技術の開発」に係る公募について

対象課題

[2]先端半導体製造技術の開発(助成)
(f)次世代半導体設計技術開発
 ①(f5)低遅延・超低消費電力AIアクセラレータ開発【GX】
 ②(f6)画像処理用半導体の設計技術開発【GX】

事業期間

研究開発開始時点から原則5年(60ヶ月)以内
※当初の交付決定期間は36ヶ月以内

予算規模

1件あたり原則175億円以下(助成率:2/3)
※学術機関等への共同研究費は定額助成(100%助成)