・当社製品である半導体製造装置および、ディスプレイ製造装置に関する基盤技術や応用技術に関する研究、特にデバイス製造における新たなニーズに適合する研究

・上記に関連し、将来的な当社の事業領域への貢献が期待される、独創的かつ挑戦的なアカデミックな視点からのシーズ技術の研究

2026年4月1日～最長3年間

・大型研究：年間1,500万円以内（3年間総額4,500万円）
・中型研究：年間500万円以内（3年間総額1,500万円）
・小型研究：年間150万円以内（3年間総額450万円）