・当社製品である半導体製造装置に関する技術やデバイス・ウェーハ製造プロセスのニーズに適合する研究
・上記に関連し、将来的な当社の事業領域への貢献が期待される独創的なアカデミックな視点のシーズ技術の研究

2025年4月1日～最長3年間

・大型研究：年間1,500万円以内／年
・中型研究：年間500万円以内／年
・小型研究：年間150万円以内／年