理工学研究科和賀未希帆さんがThe 13th International Symposium in Science and Technology at Cheng Shiu University 2018においてPoster Presentation Awardを受賞

氏名

和賀　未希帆

所属

理工学研究科　化学生命工学専攻　化学・物質工学分野(機能材料研究室)

受賞年日

2018年08月11日

大会・団体名

The 13th International Symposium in Science and Technology at Cheng Shiu University 2018

受賞名

Poster Presentation Award

研究テーマ等

Effect of bias on layer formation during two-step plasma nitriding using a cathodic screen

賞の概要

International Symposium in Science and Technologyは、本学理工系と協定を締結しているアジアの大学（台湾正修科技大学、タイチュラロンコン大学、タイタマサート大学、マレーシア科学大学）との国際シンポジウムであり、2018年8月9日〜11日に13回目の国際シンポジウムが台湾高雄の正修科技大学にて開催された。当該学生が化学・物質工学ゼミナールの一環として取り組んでいる陰極スクリーンを用いたプラズマ窒化に関する研究の一部の成果をポスターセッションで発表した。このポスターセッションではショートプレゼンテーションならびにポスター発表により報告し、研究内容に関して参加した他の研究者との積極的な議論・意見交換を行い、発表総数68件の中から研究内容、表現および発表態度が優秀な者に対して授与されるPoster Presentation Awardを受賞した。