用途・応用分野
1、高光反射性や透明導電性を要求される分野へのプラスチックの適用
2、液晶ディスプレイにおいて、電圧を印加するための酸化インジウムー酸化スズ薄膜（ITO皮膜）のプラスチックス表面への作製技術としての応用
2、液晶ディスプレイにおいて、電圧を印加するための酸化インジウムー酸化スズ薄膜（ITO皮膜）のプラスチックス表面への作製技術としての応用
概要
プラスチックへの光・電子機能金属酸化物皮膜の形成は、次の手順により行う。
①耐熱性の高い基材の上に有機高分子膜を形成する
②その上部に金属酸化物ゾルをコーティング する
③500°C以上で焼成し、金属酸化物ゲル膜を結晶性酸化物皮膜に変換する
④接着剤を塗布したプラスチック基材を結晶性酸化物皮膜に密着させる
⑤耐熱性基材から結晶性酸化物皮膜を剥離してプラスチック基材へ転写する
⑥高分子膜又は炭素膜を除去すれば結晶性酸化物皮膜が表面に現れる
上記は「研究・技術シーズ集」より抜粋した内容です。詳細につきましては「研究・技術シーズ集一覧」よりご確認ください。
