研究員紹介
大堀 大介 / OHORI Daisuke
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所属
システム理工学部（グリーンエレクトロニクス工学科）
准教授
研究室
電子機能材料プロセス研究室
研究の経緯
低欠陥プラズマを用いた、原子層レベルで制御可能なエッチング研究を基盤に、「反応層工学（RLE）」の提唱を目指しています。プロセスを形成・活性化・脱離（FAD）へ分解し、化学的・物理的変数を精密制御する手法の確立に向け、次世代配線や量子デバイス等の界面改質を含む広範な表面制御技術の開発に取り組んでいます。
研究テーマ
① 反応層を使った材料加工技術
② ラジカル制御による薄膜成長
③ 有機材料の微細加工応用
研究分野
- ライフサイエンス
- 情報通信
- 環境・農学
- ナノテク・材料
- エネルギー
- ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学）
- 社会基盤（土木・建築・防災）
- フロンティア（航空・船舶）
- 人文・社会
- 自然科学一般
- その他
キーワード
反応層工学(RLE)、原子層レベルの制御、界面改質、量子デバイス、表面制御技術、原子層エッチング、半導体プロセス
応用技術分野
パワー半導体用ワイドバンドギャップ材料制御、量子デバイス界面改質技術、高機能半導体界面設計
Faculty, Department
Associate Professor
Department of Green Electronics,
Faculty of Engineering Science
Research Topics
① Reaction-layer‒based control of thin-film growth and etching processes
② Interface chemistry and initial reactions in ALD of dielectric and metal films
③ Organic polymer etching and its application to nanoscale masking
Research Field
- Life Science
- Informatics
- Environmental Science/Agriculture Science
- Nanotechnology/Materials
- Energy Engineering
- Manufacturing Technology(Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering)
- Social Infrastructure(Civil Engineering, Architecture, Disaster Prevention)
- Frontier Technology(Aerospace Engineering, Marine and Maritime Engineering)
- Humanities & Social Sciences
- Natural Science
- Other
Key Words
Reaction-Layer Engineering (RLE), Atomic-scale control, Interface modification, Quantum devices, Surface engineering, Atomic Layer Etching (ALE), Semiconductor processing
Applications
Wide-bandgap material control for power semiconductors, Quantum device interface modification, High-performance semiconductor interface design