SOI Lubistorの物理学と応用
| 大村泰久 著
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| 判 型 | Ａ５判 |
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| ページ | 424頁 |
| 定 価 | 5,280円（本体4,800円+税） |
| ISBN | 978-4-87354-645-2 |
| 分類コード | C3042 |
| 刊行年月 | 2017年02月 |
IBMがSOI基板技術をLSIとして2001年に実用化した時、静電破壊保護用半導体デバイスとしてLubistorが採用された。Lubistorはその後最先端半導体デバイスであるトンネルFETとして注目されている。今後の応用開拓のためLubistorの提案の経緯から現在までの発展過程を詳細に説明する。
- 目 次
- 目 次
第１部 pn接合デバイスの歴史の概要と近年のデバイス応用例
第２部 SOI Lubistorの物理学とモデルの検討
―厚い半導体層のデバイス―
第３部 SOI Lubistorの物理学とモデルの検討
―薄い半導体層のデバイス―
第４部 回路応用
第５部 SOI Lubistorの光学デバイス応用
第６部 試験、評価手段としてのSOI Lubistor
第７部 SOI Lubistorの将来にわたる発展の見通し
第８部 半導体デバイス解析のためのデバイス物理学及び数学のまとめ
本著を構成する原著論文等
索 引